Kreuzen Sie an welche Verfahrensschritte zur Entstehung von Inteferenzmustern in Interferometern nötig sind.

Erzeugung eines Laufzeit-Gang-Phasenunterschiedes.

Aufteilung eines Strahles in zwei oder mehrere Komponenten.

Zusamenführung und Überlagerung der Teilstrahlen.

Drehung der Polarisationsebene um 90°.

Überprüfen zurücksetzen